在现今科技范畴，等离子体工艺和薄膜沉积手艺饰演着愈来愈主要的脚色。而在这个范畴，瑞典Ionautics的HiPSTER HiPIMS装配无疑是行业的标杆，Ionautics成立在2010年，一向致力在电离物理气相沉积范畴的立异与研究。近期，Ionautics发布了新产物HiPSTER 20脉冲产生器，这款专为工业用处和研发部分打造的20 kW高功率HiPIMS解决方案，表现了Ionautics在等离子体工艺和薄膜沉积手艺范畴的领先地位。

HiPIMS手艺

HiPIMS是一种进步前辈的薄膜沉积手艺，经由过程利用尺度磁控管的脉冲等离子体放电来电离材料通量。其怪异的长处在在，离子可以经由过程电场和磁场的配合感化进行指导和把持，从而在薄膜沉积进程中取得出色的机能。与传统的薄膜沉积手艺比拟，HiPIMS可以或许更切确地节制薄膜的厚度、平均性和附着性等要害参数，从而显著提高产物的机能和不变性。

Ionautics的HiPSTER装配在HiPIMS手艺的根本上，进一步引入了立异的快速开关手艺和扩大的HiPIMS脉冲节制手艺。经由过程切确的脉冲时序和幅度节制，实现了对等离子体工艺的高效调控。这类节制手艺使得研究人员可以或许更好地把握等离子体工艺的各个参数，从而更好地优化工艺前提，提高产物的机能和不变性。

关在HiPSTER 20脉冲产生器

Ionautics的新产物HiPSTER 20脉冲产生器针对工业用处和研发部分的需求，专门设计成一款20 kW的高功率HiPIMS解决方案。它充实操纵了HiPIMS手艺的优势，HiPSTER 20脉冲产生器磁控管尺寸可达 1700 cm2，可以或许在处置年夜面积工艺时揭示出显著的优势，并供给出色的机能和效力。

HiPSTER 20脉冲产生器特点：

恒定电压，没有没必要要的震动

可经由过程主从设置装备摆设进行节制——多个电源。

新的开关手艺答应HiPIMS脉冲频率高达 10 kHz

添加 lonautics 的叠加手艺HIPIMS + DC

可按要求实行反映式 HiPIMS 进程节制

在平面和可扭转磁控管长进行工业利用测试

放电脉冲电压和电流的及时信息

HiPSTER 20脉冲产生器利用

硬质涂层

更滑腻、更致密的元素 和反映沉积复合涂层、可提高硬度、削减 侵蚀，削减磨擦

光学涂层

提高光学机能，经由过程滑腻的界面和致密的布局提高光学机能

阻隔涂层

经由过程增添涂层密度

电气涂层

提高导电性，从而削减涂层厚度，下降热负荷。对绝缘体，还可提高隔离度隔热机能。

3-D 涂层

在外形复杂的外形的基材上

HiPSTER 20脉冲产生器输出规格

输出平均功率：≤20千瓦

输出峰值电压: ≤1000V

输出峰值电流: ≤2000A

调理模式：电压、电流、功率、脉冲电流、脉冲充电

脉冲频率: 50 至 10000 赫兹

脉冲延续时候:3.5us至1000us

电弧节制-反映时候: 2us

触发输入/输出: TTL兼容

HiPSTER 20脉冲产生器输入规格

交换输入电压: 1相+ N,100-240 VAC,50/60 Hz

230V 时的输入电流: 0.7安直流充电输入: 最年夜1000 V，浮动

HiPSTER 20脉冲产生器情况指标

工作温度: +5°C 至 +40°C

贮存温度: -25°C 至 +55°C

相对湿度: 最年夜 85%，非冷凝

气压: 80 kPa 至 106 kPa

冷却体例: 风冷

污染品级: 2级。冷却空气必需正常,不含侵蚀性蒸气而且导电颗粒。

规格: CE 认证

瑞典Ionautics HiPSTER HiPIMS装配以其立异的科技和出色的机能引领了等离子体工艺的新篇章。HiPSTER 20脉冲产生器以其高效、靠得住、年夜尺寸的特点，成为合用在工业用处和研发部分20 kW HiPIMS解决方案的抱负选择。不管是在科研范畴仍是在工业出产中，Ionautics以领先的电离物理气相沉积手艺，为您供给进步前辈的东西和专业常识。